薄膜工艺用氮化铝抛光基片

供应薄膜工艺用氮化铝抛光基片

材料：氮化铝陶瓷；

导热率：180+10%；

表面粗糙度，ra≤30nm；

热膨胀系数：<5.0；

尺寸：2"*2"；

厚度：0.2毫米~5毫米

公司介绍：

我公司是专业提供陶瓷刀片加工抛光，高热导氮化铝陶瓷基片及抛光片(Zui高10nm)，氧瓷化铝陶基片及抛光片(Zui高20nm),及光学材料的表面精密抛光加工。99.5以上氧化铝精密陶瓷件。公司秉承“顾客至上，锐意进取”的经营理念，坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。欢迎惠顾！